سامسونج تحصل على أول طلب لإنتاج رقاقات بدقة تصنيع قدرها 2 نانومتر

دخلت شركة سامسونج وشركة TSMC في صراع محتدم على تطوير دقة تصنيع قدرها 2 نانومتر، إذ أُشيع سابقًا أن عملاقَي صناعة المسابك يستعدان لتقديم عينات هندسية لشركة كوالكوم باستخدام الطباعة الحجرية بتقنية الأشعة فوق البنفسجية المتطرفة EUV.

وفيما يتعلق بتأمين الطلبات المصنوعة بدقة تصنيع قدرها 2 نانومتر، حقق العملاق الكوري صفقة مهمة بالشراكة مع الشركة اليابانية الناشئة PFN. ويُقال إن شركة PFN قد قررت ألّا تتوجه إلى شركة TSMC لأسباب مجهولة.

وتأسست شركة Preferred Networks، المعروفة باسم PFN، في عام 2014 وهي متخصصة في تطوير رقاقات الذكاء الاصطناعي والبحث والتطوير في مجال التعلم العميق لتطبيقات إنترنت الأشياء (IoT).

وتعد هذه الشركة الأكثر تقدمًا في اليابان بفضل امتلاكها للموارد والخبرات في تطوير البرامج المخصصة وتوفير الحواسيب الفائقة للعديد من العملاء، مع الإشارة إلى أن شركة PFN تعد شركة فرعية مستقلة من الشركة الأم Preferred Infrastructure.

ويشير التقرير الصادر عن صحيفة Korea Economic Daily، إلى أن الشراكة المحتملة بين PFN وسامسونج ستعود بالفائدة على كلا الكيانين، كما يذكر التقرير أن التحالف مع PFN من شأنه أن يفتح عدة أبواب أمام شركة سامسونج، مما يسمح لها باكتساب المزيد من العملاء الراغبين برقاقات مصنوعة بدقة تصنيع قدرها 2 نانومتر. واللافت أن شركة PFN لديها ارتباط وثيق بشركتي إنفيديا وإنتل، مما يجعلها حليفًا قويًا لسامسونج.

وقد حصلت شركة سامسونج على طلب إنتاج ضخم لرقاقات بدقة تصنيع قدرها 2 نانومتر EUV من شركة PFN اليابانية، ويعد هذا الطلب أول طلب ضخم خارجي في صناعة الرقاقات بدقة تصنيع قدرها 2 نانومتر.

ومن المقرر أن تبدأ سامسونج بتسليم أولى الرقاقات المستندة إلى دقة التصنيع البالغة 2 نانومتر، والتي تسميها سامسونج SF2، بكميات كبرى في عام 2025؛ مما يعني أن معظم عام 2024 سيُخصص للاختبار والتحقق من عملية الإنتاج.

وقد صممت دقة التصنيع البالغة SF2 لتوفير كفاءة طاقة عليا بنسبة تصل إلى 25% وأداء أفضل بنسبة تصل إلى 12% مقارنة بدقة التصنيع البالغة SF3.

وفي سوق تصنيع أشباه الموصلات، تتنافس دقة التصنيع البالغة SF2 من سامسونج مع دقة التصنيع البالغة N2 من TSMC ودقة التصنيع البالغة 20A من إنتل.

شكر جزيلا للطرح القيم
ننتظر المزيد من ابداع مواضيعك الرائعه
تحيتي وتقديري لك